廣電計量半導(dǎo)體材料微結(jié)構(gòu)分析與評價CNAS認(rèn)可提供半導(dǎo)體材料微結(jié)構(gòu)分析與評價服務(wù),提供半導(dǎo)體材料元素成分分析,結(jié)構(gòu)分析,微觀形貌分析測試服務(wù),CNAS資質(zhì)認(rèn)可,幫助客戶全面了解半導(dǎo)體材料理化特性。
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更新日期:2024-09-04
在線留言品牌 | 廣電計量 | 加工定制 | 是 |
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服務(wù)區(qū)域 | 全國 | 服務(wù)周期 | 常規(guī)3-5天 |
服務(wù)類型 | 元器件篩選及失效分析 | 服務(wù)資質(zhì) | CMA/CNAS認(rèn)可 |
證書報告 | 中英文電子/紙質(zhì)報告 | 增值服務(wù) | 可加急檢測 |
是否可定制 | 是 | 是否有發(fā)票 | 是 |
半導(dǎo)體材料微結(jié)構(gòu)分析與評價CNAS認(rèn)可服務(wù)范圍
半導(dǎo)體材料、有機小分子材料、高分子材料、有機/無機雜化材料、無機非金屬材料。
檢測項目
(1)半導(dǎo)體材料元素成分分析:EDS 元素分析,X 射線光電子能譜(XPS)元素分析;
(2)半導(dǎo)體材料分子結(jié)構(gòu)分析:FT-IR 紅外光譜分析,X 射線衍射(XRD)光譜分析,核磁共振波普分析(H1NMR、C13NMR);
(3)半導(dǎo)體材料微觀形貌分析:雙束聚焦離子束(DB FIB)切片分析,場發(fā)射掃描電鏡(FESEM)微觀形貌量測與觀察,原子力顯微鏡(AFM)表面形貌觀察。
相關(guān)資質(zhì)
CNAS
半導(dǎo)體材料微結(jié)構(gòu)分析與評價CNAS認(rèn)可服務(wù)背景
隨著大規(guī)模集成電路的不斷發(fā)展,芯片制程工藝日趨復(fù)雜,半導(dǎo)體材料微結(jié)構(gòu)及成分異常阻礙著芯片良率的提高,為半導(dǎo)體及集成電路新工藝的實施帶來了極大的挑戰(zhàn)。
我們的優(yōu)勢
(1)芯片晶圓級剖面制備及電子學(xué)分析,基于聚焦離子束技術(shù)(DB-FIB),對芯片局部區(qū)域進行精確切割,并實時進行電子學(xué)成像,可得到芯片剖面結(jié)構(gòu),成分等重要工藝信息;
(2)半導(dǎo)體制造相關(guān)材料理化特性分析,包括有機高分子材料、小分子材料、無機非?屬材料的成分分析、分子結(jié)構(gòu)分析等;
(3)半導(dǎo)體物料污染物分析方案的制定與實施??蓭椭蛻羧媪私馕廴疚锏睦砘匦?,包括:化學(xué)成分組成分析、成分含量分析、分子結(jié)構(gòu)分析等物理與化學(xué)特性分析。